Американская компания Akhan Semiconductor, специализирующаяся на производстве и применении синтетических, выращенных в лаборатории алмазных материалов для электроники, полупроводникового производства и других областей применения, продемонстрировала возможность производства «алмазных» пластин CMOS диаметром 300 мм. По её словам, эти пластины станут прорывом в отрасли, позволив улучшить энергопотребление, охлаждение и долговечность электроники с небольшим изменением существующих производственных процессов.
Как утверждается, присущие алмазу свойства делают его оптимальным материалом для полупроводникового производства, намного превосходящим кремний, уже более шести десятилетий являющийся основным материалом отрасли. Даже для производства с применением наиболее передовых технологий производители полупроводниковой продукции традиционно полагаются на кремниевые пластины диаметром 300 мм, несмотря на то, что они вплотную подступили к физическим ограничениям кремния. В Akhan уверены, что по мере того как мировая промышленность выходит за рамки закона Мура, способность производить 300-миллиметровые алмазные пластины имеет решающее значение для производителей полупроводниковой продукции, особенно в таких передовых отраслях, как аэрокосмическая, телекоммуникационная, военная и оборонная промышленность, а также бытовая электроника.
Остается добавить, что речь идет о формировании на поверхности обычной пластины алмазного нанослоя, который придает ей описанные выше достоинства. В частности, по теплопроводности он в 5 раз лучше меди и в 22 раза лучше кремния. Алмаз превосходит кремний и по диэлектрическим свойствам.
